LockSpray精确质量数电离源

LockSpray精确质量数电离源

轻松完成精确质量数测量

轻松完成精确质量数测量

LockSpray双电喷雾离子源可将分析物和锁定质量数化合物的联合进样优化为直接进样到离子源中,从而在MS和MS/MS模式下进行经验证的精确质量数测量,其质量数准确度在5 ppm RMS以内(Xevo QTof MS为3 ppm,Xevo G2 Tof系列、Xevo G2 QTof系列和SYNAPT G2系列为1 ppm)。

由此,与精确质量数测量相关的特异性得以提升,代谢物分析和蛋白质组学应用中的化合物或碎片鉴定效率将更高。

通常情况下,为了获取有效的精确质量数测量值,整个分析过程中都需要使用内标或“锁定质量数”来校正环境或实验条件中的变量。这一校正是通过在主要分析物液流中“掺入”合适的参比化合物来实现的。然而,这种方法往往会引起电离抑制、潜在的质量数干扰和溶剂梯度效应。

LockSpray源的设计打破了这些局限。

LockSpray精确质量数电离源 LockSpray精确质量数电离源

概述



LockSpray源操作

在LockSpray源中,传统的电喷雾入口被全新的电离源外壳所取代,该外壳具有附加的气动辅助电喷雾探头,用于引入锁定质量数参比化合物。

通过由可编程步进电机驱动的振荡挡板分别对两个电喷雾流进行采样。参比喷雾按预定义时间间隔进行采样,从而使采集工作周期主要侧重于分析物液流。

系统将对采样挡板的位置进行实时监测,从而对两个液体入口进行标识,以便将参比数据和样品数据存储在独立的文件中。LockSpray源设计可消除分析物和参比通道之间的交叉干扰,从而确保精确质量数数据的完整性。


仪器兼容性

LockSpray接口/电离源可用于以下MS仪器:

  • Xevo G2 QTof、Xevo G2-S QTof、Xevo G2-XS QTof
  • Xevo G2 Tof、Xevo G2-S Tof、Xevo G2-XS Tof
  • (MALDI) SYNAPT G2 MS/HDMS、(MALDI) SYNAPT G2-S MS/HDMS、(MALDI) SYNAPT G2-Si MS/HDMS

设备与安装

LockSpray接口/源外壳包含电喷雾源入口组件,带额外的低流量(约10 µL/min)参比附带探头以及喷雾选择电机的已标识步进电机控制。此接口可与标准同轴电喷雾探头配合使用。Xevo QTof、Xevo G2 Tof/QTof系列和SYNAPT G2系列LockSpray源外壳包含独立的ESI探头。

精确质量数源组件需要由沃特世现场服务工程师安装并进行操作培训。



资源

文档

文档


支持服务

支持服务



您希望做什么?

您希望做什么?
您需要帮助吗?

相关信息

只有它能提供多维分辨率,使分析实现高水平的分离、特异性和可信度。功能强大的通用型平台,适用于成像、生命科学研究和化学材料鉴别。

SYNAPT G2-Si MS提供了稳定的高分辨率UPLC/MS/MS性能,同时通用性非常广泛,升级选件多种多样,可实现3个维度的分辨率,为您带来理想的研发效果。

常规高分辨率MALDI MS/MS性能和优异的分析通用性,可用于多种应用,包括成像、生命科学研究和化学材料鉴别。

NanoLockSpray™双电喷雾离子源采用了经过优化、直接在离子源中同时引入分析物和锁定质量数化合物的方式,可以在NanoFlow™ LC-MS和LC-MS/MS操作模式下提供经过验证的精确质量数测量。

集成了XS碰撞室的台式QTof质谱仪,具有更高的灵敏度和选择性,提供出色的质量、全面的定性信息,同时具有优异的定量性能。
返回顶部 返回顶部