LockSpray™双电喷雾离子源可将分析物和校准化合物的混合进样优化为分别直接进样到离子源中,从而在MS和MS/MS模式下进行经验证的精确质量数测量,其质量数准确度在5 ppm RMS以内(XevoQTof MS为3 ppm,Xevo G2 Tof系列、Xevo G2 QTof系列和SYNAPT G2系列为1 ppm)。
由此,与精确质量数测量相关的特异性得以提升,代谢物分析和蛋白质组学应用中的化合物或碎片鉴定效率将更高。
通常情况下,为了获取有效的精确质量数测量值,整个分析过程中都需要使用内标或“锁定质量数”来校正环境或实验条件中的变量。这一校正是通过在主要分析物中“掺入”合适的参比化合物来实现的。然而,这种方法往往会引起电离抑制、潜在的质量数干扰和溶剂梯度效应。
LockSpray源的设计打破了这些局限。
LockSpray源操作
在LockSpray源中,传统的电喷雾入口被全新的电离源腔体所取代,该腔体具有附加的气动辅助电喷雾探头,用于引入锁定质量数参比化合物。
通过由可编程步进电机驱动的挡板分别对两个电喷雾流进行采样。参比喷雾按预定义时间间隔进行采样,从而使采集工作周期主要侧重于分析物液流。
系统将对采样挡板的位置进行实时监测,从而对两个液体入口进行标识,以便将参比数据和样品数据存储在独立的文件中。LockSpray源设计可消除分析物和参比通道之间的交叉干扰,从而确保精确质量数数据的完整性。