NanoLockSpray精确质量数电离源

在NanoFlow LC-MS和LC-MS/MS模式下均适用的精确质量数测量

NanoLockSpray双电喷雾离子源可以提供经过验证的精确质量数测量，支持NanoFlow LC-MS和LC-MS/MS操作模式。该离子源经过优化，可直接在离子源中同时引入分析物和锁定质量数化合物，是用于采集精确质量数数据的升级替代产品。

由此，与精确质量数测量相关的特异性得以提升，代谢物分析和蛋白质组学应用中的化合物或碎片鉴定效率将更高。

(MALDI) Synapt G2 MS/HDMS系列、Xevo G2 Tof和Xevo G2 QTof系列仪器的质量精度通常为1 ppm。

通常情况下，为了获取有效的精确质量数测量值，整个分析过程中都需要使用内标或“锁定质量数”来校正环境或实验条件中的变量。这一校正是通过在主要分析物液流中“掺入”合适的参比化合物来实现的。然而，这种方法往往会引起电离抑制、潜在的质量数干扰和溶剂梯度效应。

NanoLockSpray源的设计打破了这些局限。

NanoLockSpray源的变式产品为传统的电喷雾入口配备了全新的电离源外壳，该外壳具有附加的气动辅助电喷雾探头，用于引入锁定质量数参比化合物。

使用可编程步进电机驱动的振荡挡板对两个电喷雾单独采样。参比喷雾按预定义时间间隔进行采样，以确保采集工作周期主要侧重于分析物液流。

系统将实时监测采样挡板的位置，从而对两个液体入口进行标识，以便将参比数据和样品数据存储在独立的文件中。该离子源设计可消除分析物和参比通道之间的交叉干扰，从而确保精确质量数数据的完整性。

得益于上述设计，NanoLockSpray双电喷雾离子源成为使用NanoFlow LC-MS/MS进行精确质量数数据采集的理想之选，并且非常适用于蛋白质组学研究或低含量代谢物鉴定。

NanoLockSpray源组件/外壳包括一个用于进样参比化合物的低流速(<1 µL/min)电喷雾NanoFlow探头入口，以及喷雾选择挡板的已标识步进电机控制。此外还提供调节器装置和内视查看器，用于协助用户确定分析物Nanospray装置的位置。

Xevo Tof/QTof系列和SYNAPT系列仪器的NanoLockSpray源还包括一个额外的通用NanoFlow喷雾器，以及用于代替内视查看器的一套摄像头组件和LED光源。分析物喷雾的图像会显示在仪器PC工作站上。

Nanoflow精确质量数源组件需要由沃特世现场服务工程师安装并进行操作培训。

NanoLockSpray接口/电离源可用于以下MS仪器：

(MALDI) SYNAPT G2 MS/HDMS、(MALDI) SYNAPT G2-S MS/HDMS、(MALDI) SYNAPT G2-Si MS/HDMS
Xevo G2 Tof、Xevo G2-S Tof和Xevo G2-XS Tof
Xevo G2 QTof、Xevo G2-S QTof和Xevo G2-XS QTof

您需要帮助吗？