Sistemas ACQUITY UPLC com tecnologia de LC 2D

Número de solventes

Até quatro, em qualquer combinação de dois: A1 ou A2 e B1 ou B2

Armazenamento de solvente

A bandeja para solvente pode conter até quatro solventes cromatográficos, um solvente de lavagem do gerenciador de amostras e um solvente de lavagem do selo do gerenciador de solvente binário.

Condicionamento de solvente

Desgaseificação a vácuo integrada, seis linhas com duas alocadas para os solventes de purga/lavagem de agulha do injetor

Formação de gradiente

Mistura de alta pressão, gradiente binário

Perfis de gradiente

Onze curvas de gradiente, incluindo linear, por passos (2), côncavas (4) e convexas (4)

Intervalo da taxa de fluxo operacional

0,001 a 2,000 mL/min, em incrementos de 0,001 mL (versão de firmware 1.71 e posteriores)

Pressão operacional máxima

18.000 psi até 1 mL/min, 12.000 psi até 2 mL/min

Válvulas de retenção primárias

Válvulas de admissão inteligente (i² Valve)

Exatidão do fluxo†

±1,0% da taxa de fluxo definida a 0,500 mL/min conforme o SystemsQT

Precisão do fluxo†

RSD ≤ 0,075% ou SD de 0,01 min, (0,2 a 2,0 mL/min), o que for maior, utilizando solvente pré-misturado

Ondulação da composição† (ruído de linha de base)

≤ 1,0 mAu

Precisão composicional†

RSD ≤ 0,15% ou SD de 0,01 min, o que for maior

Exatidão da composição†

±0,5% absoluta de 5% a 95%, de 0,2 a 2,0 mL/min

Pulsação de pressão

≤ 0,4% ou 25 psi, o que for maior

Compensação da compressibilidade

Automática, sem necessidade de intervenção do usuário

Purga

A purga úmida é executada a uma taxa de fluxo de 4 mL/min

Volume efetivo de atraso do sistema

< 140 μL, independente da contrapressão do sistema (com misturador de 50 μL instalado)

Lavagem do selo da bomba

Equipado com um sistema de lavagem ativo e programável para lavar a parte traseira dos selos de alta pressão e dos êmbolos

Variação de fluxo

Automática

Principais materiais umedecidos

Aço inoxidável 316 L, mistura de UHMWPE, MP35N, liga de titânio, ouro, safira, rubi, zircônia, Nitronic 60, DLC, fluoropolímero, PEEK e mistura de PEEK

Opções de mistura

Padrão: 50 μL

Opcional: 100 μL e 380 μL

Número de solventes

Um a quatro, em qualquer combinação como padrão.

Mais opções de solventes com válvula de seleção de solvente de seis portas opcional

Pressão operacional máxima

15000 psi até 1,0 mL/min, 9000 psi até 2,0 mL/min (versão de firmware 1.5x e versões anteriores)

15000 psi até 1,0 mL/min, 7800 psi até 2,2 mL/min (versão de firmware 1.6x e versões posteriores)

Condicionamento de solvente

Desgaseificação a vácuo integrada, quatro câmaras.

Uma adicional para o solvente de purga do SM-FTN

Mistura de solventes

Mistura automatizada, com pH on-line, força iônica e modificador orgânico de solventes puros com Tecnologia Auto•Blend Plus

Formação de gradiente

Mistura de baixa pressão, gradiente quaternário

Perfis de gradiente

Onze curvas de gradiente, incluindo linear, por passos (2), côncavas (4) e convexas (4)

Intervalo da taxa de fluxo ajustável

0,010 a 2,000 mL/min, em incrementos de 0,001 mL (versão de firmware 1.5x e versões anteriores)

0,010 a 2,200 mL/min, em incrementos de 0,001 mL (versão de firmware 1.60)

0,001 a 2,200 mL/min, em incrementos de 0,001 mL (versão de firmware 1.65 e versões posteriores)

Válvula de retenção primária

Válvula de admissão inteligente (i² Valve)

Pulsação de pressão†

≤ 1,0% ou 25 psi, o que for maior

Exatidão do fluxo†

±1,0% a 0,5 a 2,0 mL/min utilizando 100% de A

Precisão do fluxo†

RSD ≤ 0,075% ou SD de ±0,01 min, o que for maior, baseado em seis replicatas (com a i² Valve)

Ondulação da composição† (ruído de linha de base)

≤ 1,0 mAu

Exatidão da composição†

±0,5% absoluta (escala total) de 5% a 90% de 0,5 a 2,0 mL/min, com i² Valve

Precisão da composição†

RSD ≤ 0,15% ou SD de ±0,02 min, o que for maior, baseado em seis injeções de replicação (com a i² Valve)

Compensação da compressibilidade

Automática e contínua

Purga

A purga úmida pode ser executada a taxas de fluxo até 4 mL/min. Programável a partir do software do console de UPLC

Lavagem do selo da bomba

Equipado com um sistema de lavagem para lavar a parte traseira do selo de alta pressão e do êmbolo, integração e programável

Variação de fluxo

Intervalo: 0,01 a 30,00 min para alcançar 2,0 mL/min

Padrão: 0,45 min para alcançar 2,0 mL/min

Principais materiais umedecidos

Aço inoxidável 316 L, PPS, fluoropolímero, fluoroelastômero, mistura de UHMWPE, safira, rubi, zircônia, Nitronic 60, DLC, PEEK e mistura de PEEK, liga de titânio

Intervalo do volume de injeção

0,1 a 10,0 μL como configuraçãopadrão.

Até 1000,0 μL com loop de extensão opcional

Exatidão

±0,2 μL (medida pelo peso do fluido removido do vial com injeções de 10,0 μL com média sobre 20 injeções utilizando uma seringa padrão de 100,0 μL)

Linearidade†

≥ 0,999

Precisão†

≤ 0,25%, 5 a 50 μL

Capacidade máxima de amostras

Duas das seguintes opções:

• Placas de microtitulação de 96 e 384 poços

• Placas de vials de 2,00 mL e 48 posições

• Placas de tubos de microcentrífuga de 0,65 mL e 48 posições

• Placas de tubos de microcentrífuga de 1,50 mL e 24 posições

Intervalo de temperatura do compartimento de amostras

De 4,0 a 40,0 °C, ajustável em incrementos de 0,1 °C; mantém 19 °C abaixo da temperatura ambiente com um intervalo de tolerância de temperatura entre -2 e +4 °C

Exatidão da temperatura

±0,5 °C no sensor

Estabilidade da temperatura

±1,0 °C no sensor

Tempo de aquecimento do gerenciador de amostras

≤ 30 min ambiente -40 °C

Tempo de resfriamento do gerenciador de amostras

≤ 60 min ambiente -4 °C

Lavagem da agulha de injeção

Integrada, ativa, programável.

Amostra mínima exigida

3 μL residuais, utilizando vials Waters Total Recovery de 2 mL (deslocamento zero)

Carryover de amostra

≤ 0,001% de cafeína (UV)

≤ 0,001% de sulfadimetoxina (MS)

Capacidades avançadas do gerenciador de amostras

Diluição automática e adição automática

Principais materiais umedecidos

Aço inoxidável 316 L, poliimida, mistura de PEEK, DLC, PPS